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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6757849 | リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造 | 2020年 9月23日 | |
特許 6760975 | 制御システム、位置決めシステム、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2020年 9月23日 | |
特許 6756850 | リソグラフィ装置用の抽出体 | 2020年 9月16日 | |
特許 6751759 | 基板テーブル、リソグラフィ装置、及びリソグラフィ装置を操作する方法 | 2020年 9月 9日 | |
特許 6751772 | 位置測定システム、較正方法、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2020年 9月 9日 | |
特許 6753934 | 光学システムおよび方法 | 2020年 9月 9日 | |
特許 6754002 | アライメントシステムの断熱化 | 2020年 9月 9日 | |
特許 6748737 | 基板支持部、リソグラフィ装置、およびローディング方法 | 2020年 9月 2日 | |
特許 6741600 | リソグラフィ装置内で用いられる膜及びそのような膜を含むリソグラフィ装置 | 2020年 8月19日 | |
特許 6741736 | 露光装置 | 2020年 8月19日 | |
特許 6741739 | 粒子ビーム装置 | 2020年 8月19日 | |
特許 6741879 | 荷電粒子源モジュール、荷電粒子源モジュールを備えた露光システム、荷電粒子源配置、半導体デバイスを製造する方法、及びターゲットを検査する方法 | 2020年 8月19日 | |
特許 6742413 | 検査システムの焦点合わせ方法及び装置 | 2020年 8月19日 | |
特許 6744397 | 極端紫外光源におけるターゲット膨張率制御 | 2020年 8月19日 | |
特許 6744437 | オーバーレイおよびクリティカルディメンションセンサにおける瞳照明のための方法およびデバイス | 2020年 8月19日 |
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6757849 6760975 6756850 6751759 6751772 6753934 6754002 6748737 6741600 6741736 6741739 6741879 6742413 6744397 6744437
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12月1日(日) -
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