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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第286位 138件 (2019年:第272位 151件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第237位 122件 (2019年:第255位 108件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6774507 | 基板ホルダ及び基板ホルダを製造する方法 | 2020年10月28日 | |
特許 6774934 | 放射源 | 2020年10月28日 | |
特許 6775040 | 露光装置 | 2020年10月28日 | |
特許 6775593 | 製造プロセスを制御するための補正を計算する方法、メトロロジ装置、デバイス製造方法、及びモデリング方法 | 2020年10月28日 | |
特許 6776352 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2020年10月28日 | |
特許 6771462 | ファセット付きEUV光学素子 | 2020年10月21日 | |
特許 6771612 | メトロロジ方法及び装置、コンピュータプログラム、並びにリソグラフィシステム | 2020年10月21日 | |
特許 6773894 | 補正を導き出すための方法及び装置、構造の特性を決定するための方法及び装置、デバイス製造方法 | 2020年10月21日 | |
特許 6768783 | レーザエネルギ変調を介した液滴−プラズマ相互作用の安定化のためのシステム及び方法 | 2020年10月14日 | |
特許 6769954 | マスクアセンブリ | 2020年10月14日 | |
特許 6770641 | 高さセンサ、リソグラフィ装置、及びデバイスを製造するための方法 | 2020年10月14日 | |
特許 6764876 | 測定装置及び方法 | 2020年10月 7日 | |
特許 6765435 | パターニングプロセスパラメータを決定する方法及び装置 | 2020年10月 7日 | |
特許 6761875 | リソグラフィ装置及び検知システムアセンブリ並びにペリクル変形測定方法 | 2020年 9月30日 | |
特許 6762355 | ビーム分割装置 | 2020年 9月30日 |
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6774507 6774934 6775040 6775593 6776352 6771462 6771612 6773894 6768783 6769954 6770641 6764876 6765435 6761875 6762355
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