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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第286位 138件
（
2019年：第272位 151件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第237位 122件
（
2019年：第255位 108件）
（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6715842 | 基板モデルパラメータを計算およびリソグラフィプロセスを制御する方法および装置 | 2020年 7月 1日 | |
| 特許 6716779 | ターゲットの測定方法、基板、計測装置およびリソグラフィ装置 | 2020年 7月 1日 | |
| 特許 6712372 | 放射システム | 2020年 6月24日 | |
| 特許 6712349 | アライメントシステム | 2020年 6月17日 | |
| 特許 6707657 | パターニングプロセスパラメータを決定する方法及び装置 | 2020年 6月10日 | |
| 特許 6703092 | 複数荷電粒子ビームの装置 | 2020年 6月 3日 | |
| 特許 6703612 | 構造を測定する方法、検査装置、リソグラフィシステム、およびデバイス製造方法 | 2020年 6月 3日 | |
| 特許 6698063 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2020年 5月27日 | |
| 特許 6698706 | 基板ホルダ、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2020年 5月27日 | |
| 特許 6696887 | 光ファイバの構成体及びこのような構成体を形成する方法 | 2020年 5月20日 | |
| 特許 6697530 | 計算的ウェーハ検査 | 2020年 5月20日 | |
| 特許 6697551 | メトロロジデータからの統計的階層的再構築 | 2020年 5月20日 | |
| 特許 6697560 | メトロロジ方法及び装置 | 2020年 5月20日 | |
| 特許 6697563 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2020年 5月20日 | |
| 特許 6697564 | 電磁モータ及びステージ装置 | 2020年 5月20日 |
126 件中 61-75 件を表示
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6715842 6716779 6712372 6712349 6707657 6703092 6703612 6698063 6698706 6696887 6697530 6697551 6697560 6697563 6697564
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