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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第286位 138件
（
2019年：第272位 151件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第237位 122件
（
2019年：第255位 108件）
（ランキング更新日：2025年10月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6697568 | 振動絶縁装置、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 | 2020年 5月20日 | |
| 特許 6691912 | 極端紫外線光源のための可変半径ミラーダイクロイックビームスプリッタモジュール | 2020年 5月13日 | |
| 特許 6694518 | パターニングデバイス冷却装置 | 2020年 5月13日 | |
| 特許 6687662 | オブジェクトホルダ及びリソグラフィ装置 | 2020年 4月28日 | |
| 特許 6687691 | 放射源およびリソグラフィのための方法 | 2020年 4月28日 | |
| 特許 6688738 | 重複線量およびフィーチャの減少によって改良されたステッチング | 2020年 4月28日 | |
| 特許 6689920 | リソグラフィ方法 | 2020年 4月28日 | |
| 特許 6685438 | 極端紫外線光源用のターゲット | 2020年 4月22日 | |
| 特許 6685914 | ＲＦプラズマ電界を使用したＥＵＶ光学部品のアクティブ洗浄装置および方法 | 2020年 4月22日 | |
| 特許 6686097 | メトロロジー方法、ターゲット、及び基板 | 2020年 4月22日 | |
| 特許 6687630 | マスクアセンブリ及び関連する方法 | 2020年 4月22日 | |
| 特許 6679722 | リソグラフィ装置および方法 | 2020年 4月15日 | |
| 特許 6681333 | 光増幅ガス媒質の触媒変換 | 2020年 4月15日 | |
| 特許 6681933 | リソグラフィ装置 | 2020年 4月15日 | |
| 特許 6681982 | 位置決めデバイス、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2020年 4月15日 |
126 件中 76-90 件を表示
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6697568 6691912 6694518 6687662 6687691 6688738 6689920 6685438 6685914 6686097 6687630 6679722 6681333 6681933 6681982
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