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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第286位 138件
（
2019年：第272位 151件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第237位 122件
（
2019年：第255位 108件）
（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6744811 | 変調装置およびそれを使用する荷電粒子マルチ小ビームリソグラフィシステム | 2020年 8月19日 | |
| 特許 6744984 | 波面の可変コレクタ | 2020年 8月19日 | |
| 特許 6744986 | 位置センサ、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2020年 8月19日 | |
| 特許 6738415 | 検査及びメトロロジのための方法及び装置 | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6738423 | 測定を向上させるための非対称なサブ分解能フィーチャを用いるリソグラフィプロセスの光学計測 | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6739536 | アクチュエータシステムおよびリソグラフィ装置 | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6740338 | リソグラフィプロセスのパラメータを測定するための方法及び装置、並びにこの方法で使用される基板及びパターニングデバイス | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6740370 | リソグラフィ装置 | 2020年 8月12日 | |
| 特許 6735794 | モデルベースのプロセスシミュレーション方法 | 2020年 8月 5日 | |
| 特許 6731118 | 剥離耐性を向上させた上部層を有するオブジェクトを備えたリソグラフィ装置 | 2020年 7月29日 | |
| 特許 6731490 | 照明システムおよびメトロロジシステム | 2020年 7月29日 | |
| 特許 6726792 | パターニングデバイス冷却装置 | 2020年 7月22日 | |
| 特許 6727327 | 照明放射を発生するための方法及び装置 | 2020年 7月22日 | |
| 特許 6724145 | 複数の荷電粒子ビームの装置 | 2020年 7月15日 | |
| 特許 6720369 | 複数荷電粒子ビームの装置 | 2020年 7月 8日 |
126 件中 46-60 件を表示
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6744811 6744984 6744986 6738415 6738423 6739536 6740338 6740370 6735794 6731118 6731490 6726792 6727327 6724145 6720369
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