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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2023-155330	ＥＵＶチャンバにおける構造物表面の洗浄	2023年10月20日
特表 2023-543683	検査装置及び方法	2023年10月18日
特開 2023-153252	インプリントリソグラフィ	2023年10月17日
特開 2023-143925	マスクアセンブリ	2023年10月 6日
特表 2023-541525	荷電粒子装置用の高電圧フィードスルー及びコネクタ	2023年10月 3日
特表 2023-541596	ウェハリソグラフィプロセスのためのウェハ保持装置を機械加工する方法および装置	2023年10月 3日
特表 2023-541365	荷電粒子評価ツール、検査方法	2023年10月 2日
特表 2023-541371	対物レンズアレイアセンブリ、電子光学系、電子光学系アレイ、集束方法、対物レンズ構成	2023年10月 2日
特表 2023-540926	メトロロジを実行する方法、機械学習モデルを訓練する方法、２次元材料を含む層を提供する方法、メトロロジ装置	2023年 9月27日
特表 2023-540179	電磁シールドを備えた電子光学アセンブリ	2023年 9月22日
特表 2023-540181	遅延時間測定方法及びシステム	2023年 9月22日
特表 2023-540186	中空コアフォトニック結晶ファイバベースの広帯域放射ジェネレータ	2023年 9月22日
特表 2023-540020	リソグラフィ装置用ペリクルメンブレン	2023年 9月21日
特開 2023-129431	ペリクルフレーム及びペリクルアセンブリ	2023年 9月14日
特表 2023-538840	荷電粒子検査装置	2023年 9月12日

157 件中 31-45 件を表示

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2023-155330 2023-543683 2023-153252 2023-143925 2023-541525 2023-541596 2023-541365 2023-541371 2023-540926 2023-540179 2023-540181 2023-540186 2023-540020 2023-129431 2023-538840

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