特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2023年出願公開件数ランキング　　　第242位　151件（2022年：第222位　169件）

　■　2023年特許取得件数ランキング　　　第238位　146件（2022年：第259位　122件）

（ランキング更新日：2025年2月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2024年 2025年

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2023-60045	極端紫外光源におけるターゲット軌道計測	2023年 4月27日
特開 2023-58596	プラズマをモニタするためのシステム	2023年 4月25日
特表 2023-516919	荷電粒子システムにおける高スループット欠陥検査のためのシステム及び方法	2023年 4月21日
特表 2023-516921	基板サポート、基板テーブルおよび方法	2023年 4月21日
特表 2023-516975	信号電子検出のためのシステム及び方法	2023年 4月21日
特表 2023-516275	静電レンズ設計	2023年 4月19日
特表 2023-516114	マルチビーム検査システム用のビーム・アレイ・ジオメトリ最適化装置	2023年 4月18日
特表 2023-516132	アパーチャ本体、フラッドコラム、及び荷電粒子ツール	2023年 4月18日
特表 2023-515790	製造プロセスを制御するための方法及び関連装置	2023年 4月14日
特開 2023-52270	顕微鏡検査のための半導体荷電粒子検出器	2023年 4月11日
特開 2023-52695	製品ユニットの製造プロセスのシーケンスの最適化	2023年 4月11日
特表 2023-514498	検査装置	2023年 4月 6日
特表 2023-514091	基板テーブル及び基板の取り扱い方法	2023年 4月 5日
特表 2023-514093	荷電粒子検査ツール、検査方法	2023年 4月 5日
特表 2023-514119	荷電粒子システムにおける流体移送システム	2023年 4月 5日

157 件中 106-120 件を表示

... 8

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2023-60045 2023-58596 2023-516919 2023-516921 2023-516975 2023-516275 2023-516114 2023-516132 2023-515790 2023-52270 2023-52695 2023-514498 2023-514091 2023-514093 2023-514119

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数