ホーム > 特許ランキング > エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. > 2026年の特許
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第194位 151件
(
2025年:第200位 172件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第331位 68件
(
2025年:第349位 78件)
(ランキング更新日:2026年10月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7901592 | リソグラフィ方法 | 2026年 8月 6日 | |
| 特許 7898466 | 半導体製造に関連する変動源をデカップリングするための方法 | 2026年 7月31日 | |
| 特許 7896094 | 基板ホルダ及び基板ホルダ製造方法 | 2026年 7月28日 | |
| 特許 7890318 | 計測装置およびリソグラフィ装置 | 2026年 7月14日 | |
| 特許 7890316 | レーザビーム計測システム、レーザビームシステム、EUV放射源及びリソグラフィ装置 | 2026年 7月14日 | |
| 特許 7887405 | 中空コアフォトニック結晶ファイバベースの広帯域放射源デバイス、メトロロジデバイス及び広帯域放射発生方法 | 2026年 7月 9日 | |
| 特許 7886936 | イルミネータ伝送を強化するためのリソグラフィ方法 | 2026年 7月 8日 | |
| 特許 7880374 | パターニングデバイス及びそのパターンを生成するためのシステム、製品、及び方法 | 2026年 6月25日 | |
| 特許 7879147 | SEM画像の強調 | 2026年 6月23日 | |
| 特許 7876970 | 原子拡散接合で部品を製造する方法 | 2026年 6月22日 | |
| 特許 7872773 | 応力低減のための金属ケイ化物窒化 | 2026年 6月10日 | |
| 特許 7872265 | マルチビームを規定するためのアパーチャパターン | 2026年 6月 9日 | |
| 特許 7868077 | リソグラフィ装置および照明均一性補正方法 | 2026年 6月 1日 | |
| 特許 7864874 | パターニングプロセスにおいてパターンを決定するための方法 | 2026年 5月25日 | |
| 特許 7864158 | マスクアセンブリ | 2026年 5月22日 |
69 件中 16-30 件を表示
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7901592 7898466 7896094 7890318 7890316 7887405 7886936 7880374 7879147 7876970 7872773 7872265 7868077 7864874 7864158
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