特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第219位　146件（2023年：第242位　151件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第249位　117件（2023年：第238位　146件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7515635	荷電粒子マルチビーム評価ツールで使用される検出器基板	2024年 7月12日
特許 7514338	広帯域放射を発生させるための方法並びに関連する広帯域源及びメトロロジデバイス	2024年 7月10日
特許 7512403	荷電粒子システムにおける高スループット欠陥検査のためのシステム及び方法	2024年 7月 8日
特許 7511002	流体ハンドリングシステム及びリソグラフィ装置	2024年 7月 4日
特許 7511033	メトロロジ方法及び装置並びにコンピュータプログラム	2024年 7月 4日
特許 7509969	マスクアセンブリ	2024年 7月 2日
特許 7507763	サンプルをスキャンするための荷電粒子ビームシステム	2024年 6月28日
特許 7507815	荷電粒子マルチビームレットリソグラフィーシステムを使用し、一意的チップを製作するための方法及びシステム	2024年 6月28日
特許 7506800	メトロロジー方法、ターゲット、及び基板	2024年 6月26日
特許 7506193	流体パージシステムおよびパージ方法	2024年 6月25日
特許 7505078	複数の荷電粒子ビームのための装置	2024年 6月24日
特許 7504114	ＥＵＶ光源におけるターゲット材料制御	2024年 6月21日
特許 7504282	光学装置を調整するためのシステムおよび方法	2024年 6月21日
特許 7503635	荷電粒子評価ツール、検査方法	2024年 6月20日
特許 7503049	ターゲット材料送達システムの寿命を延長する装置及び方法	2024年 6月19日

121 件中 46-60 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7515635 7514338 7512403 7511002 7511033 7509969 7507763 7507815 7506800 7506193 7505078 7504114 7504282 7503635 7503049

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数