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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7673097	ＥＵＶ光源のターゲット計測	2025年 5月 8日
特許 7672365	サンプル検査における画像コントラスト強調	2025年 5月 7日
特許 7670904	放射源	2025年 4月30日
特許 7667741	リソグラフィ装置に関する方法	2025年 4月23日
特許 7667169	基板サポート、基板テーブルおよび方法	2025年 4月22日
特許 7664446	放射源、リソグラフィシステム及び検査システム	2025年 4月17日
特許 7661324	リソグラフィ装置のための基板サポートを製造する方法、基板テーブル、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、使用方法	2025年 4月14日
特許 7661354	オブジェクトホルダ、ツール、及びオブジェクトホルダの製造方法	2025年 4月14日
特許 7660572	極端紫外光源用のターゲット材料タンク	2025年 4月11日
特許 7659670	荷電粒子操作デバイス	2025年 4月 9日
特許 7654141	アライメントマークの局所的な歪みに基づくアライメント信号の生成	2025年 3月31日
特許 7650280	位置決め装置およびリソグラフィ装置	2025年 3月24日
特許 7646628	基板ホルダ、リソグラフィ装置、及び方法	2025年 3月17日
特許 7644125	マスクレスリソグラフィの方法及びシステム	2025年 3月11日
特許 7644199	荷電粒子遮断要素、このような要素を備えた露光装置、及びこのような露光装置を使用する方法	2025年 3月11日

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7673097 7672365 7670904 7667741 7667169 7664446 7661324 7661354 7660572 7659670 7654141 7650280 7646628 7644125 7644199

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