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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第190位 157件
（
2025年：第200位 172件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第321位 72件
（2025年：第349位 78件）
（ランキング更新日：2026年10月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7814401 | 光パルスを空間的にフィルタリングするための方法および装置 | 2026年 2月16日 | |
| 特許 7809705 | 静電クランプ | 2026年 2月 2日 | |
| 特許 7809693 | 遅延時間測定方法及びシステム | 2026年 2月 2日 | |
| 特許 7805367 | 帯域幅及びスペックルに基づくリソグラフィプロセスの最適化 | 2026年 1月23日 | |
| 特許 7804666 | メトロロジシステム及びリソグラフィシステム | 2026年 1月22日 | |
| 特許 7804648 | 荷電粒子評価ツール、検査方法 | 2026年 1月22日 | |
| 特許 7803877 | リソグラフィ装置用の光学素子及びペリクル膜 | 2026年 1月21日 | |
| 特許 7799683 | 電磁シールドを備えた電子光学アセンブリ | 2026年 1月15日 | |
| 特許 7798884 | 荷電粒子システムにおける高度電荷コントローラモジュールによる熱補助検査 | 2026年 1月14日 | |
| 特許 7797498 | 流体ハンドリングシステム、方法およびリソグラフィ装置 | 2026年 1月13日 | |
| 特許 7797492 | ボケ除去モデルを生成して像のボケを除去する装置及び方法 | 2026年 1月13日 | |
| 特許 7796743 | 荷電粒子評価ツール、検査方法及び画像 | 2026年 1月 9日 | |
| 特許 7793634 | 投影システムの収差を予測する方法およびシステム | 2026年 1月 5日 |
73 件中 61-73 件を表示
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7814401 7809705 7809693 7805367 7804666 7804648 7803877 7799683 7798884 7797498 7797492 7796743 7793634
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