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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第219位 146件
（
2023年：第242位 151件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第249位 117件
（
2023年：第238位 146件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7527338 | 時間依存欠陥検査装置 | 2024年 8月 2日 | |
| 特許 7526736 | リソグラフィシステムを制御するための方法 | 2024年 8月 1日 | |
| 特許 7526234 | マルチビーム装置におけるビームセパレータの分散を補償するためのシステム及び方法 | 2024年 7月31日 | |
| 特許 7526259 | 液滴発生器ノズル | 2024年 7月31日 | |
| 特許 7525488 | メンブレンアセンブリを製造する方法 | 2024年 7月30日 | |
| 特許 7524280 | ペリクル及びペリクルアセンブリ | 2024年 7月29日 | |
| 特許 7523601 | パターニングプロセスの調整方法 | 2024年 7月26日 | |
| 特許 7520109 | パターニングデバイスを特徴付けるための測定システム及び方法 | 2024年 7月22日 | |
| 特許 7519455 | 信号電子検出のためのシステム及び方法 | 2024年 7月19日 | |
| 特許 7519465 | 高さ測定方法及び高さ測定システム | 2024年 7月19日 | |
| 特許 7518238 | サンプリングスキームを決定する方法、半導体基板測定装置、リソグラフィ装置 | 2024年 7月17日 | |
| 特許 7516366 | 電磁複合レンズ及びそのようなレンズを備えた荷電粒子光学システム | 2024年 7月16日 | |
| 特許 7516370 | メンブレンクリーニング装置 | 2024年 7月16日 | |
| 特許 7515524 | 基板形状測定デバイス | 2024年 7月12日 | |
| 特許 7515626 | 収差影響システム、モデル、及び製造プロセス | 2024年 7月12日 |
121 件中 31-45 件を表示
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7527338 7526736 7526234 7526259 7525488 7524280 7523601 7520109 7519455 7519465 7518238 7516366 7516370 7515524 7515626
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