ホーム > 特許ランキング > エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． > 2026年の特許
エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2026年 出願公開件数ランキング 第195位 151件
（
2025年：第200位 172件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第332位 68件
（2025年：第349位 78件）
（ランキング更新日：2026年10月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7863579 | 極紫外線フォトリソグラフィ用途のためのハイブリッドフォトレジスト組成物 | 2026年 5月21日 | |
| 特許 7862489 | アパーチャアセンブリ、ビームマニピュレータユニット、荷電粒子ビームを操作する方法、及び荷電粒子投影装置 | 2026年 5月19日 | |
| 特許 7861080 | ＥＵＶリソグラフィ用のメンブレン | 2026年 5月18日 | |
| 特許 7857935 | ウェーハ検査用の合成欠陥画像を生成するための機械学習ベースのシステム及び方法 | 2026年 5月13日 | |
| 特許 7851351 | 液滴発生器性能を制御する装置及び方法 | 2026年 4月24日 | |
| 特許 7848248 | 荷電粒子検査における画像歪み補正 | 2026年 4月20日 | |
| 特許 7844496 | 中空コア光ファイバベースの放射源 | 2026年 4月13日 | |
| 特許 7843757 | 基板エリアの測定データをモデル化する方法及び関連する装置 | 2026年 4月10日 | |
| 特許 7841043 | リソグラフィ装置で用いる基板ホルダ及びデバイス製造方法 | 2026年 4月 6日 | |
| 特許 7840950 | 荷電粒子ビーム検査システムにおけるトポロジーベースの画像レンダリング | 2026年 4月 6日 | |
| 特許 7839178 | 基板拘束システム | 2026年 4月 1日 | |
| 特許 7837961 | 流体ハンドリングシステム、方法およびリソグラフィ装置 | 2026年 3月31日 | |
| 特許 7838150 | 基板サポート、基板テーブルおよび方法 | 2026年 3月31日 | |
| 特許 7836817 | 電子密度分布を制御するための方法及び装置 | 2026年 3月27日 | |
| 特許 7836755 | マルチビームＳＥＭツール用の自己参照型健全度監視システム | 2026年 3月27日 |
69 件中 31-45 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
7863579 7862489 7861080 7857935 7851351 7848248 7844496 7843757 7841043 7840950 7839178 7837961 7838150 7836817 7836755
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
10月22日(木) - オンライン
10月22日(木) - オンライン
10月22日(木) - オンライン
10月22日(木) - 東京 町田市
10月22日(木) - オンライン
10月22日(木) - オンライン
10月23日(金) - 大阪 大阪市
10月23日(金) - 大阪 大阪市
10月23日(金) - オンライン
10月23日(金) - オンライン
10月22日(木) - オンライン
10月26日(月) - オンライン
10月26日(月) - オンライン
商標的使用論・商標機能論・商標法26条・権利濫用論等の違いからみた『商標権侵害と対応策』 ～どのように攻め、どのように守るか～
10月26日(月) - オンライン
10月26日(月) - オンライン
10月27日(火) - 東京 千代田
10月27日(火) - 千葉 千葉市
10月27日(火) - 東京 港区
10月28日(水) - オンライン
英文契約の実務（基礎から読解・作成のポイントまで）―日本語契約との違いや起こりやすいトラブル、悩ましい英文も解説します―
10月28日(水) - オンライン
最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点（米国・欧州（EPC)・中国） ～米国ならびに EPC （欧州特許条約）・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します～
10月28日(水) - 東京 千代田
10月28日(水) - オンライン
10月28日(水) - オンライン
10月29日(木) - オンライン
10月29日(木) - オンライン
10月29日(木) - オンライン
10月29日(木) - オンライン
10月30日(金) - オンライン
10月26日(月) - オンライン
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
東京都武蔵野市吉祥寺本町１丁目35-14-202 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 鑑定 コンサルティング
兵庫県西宮市高木西町18番5号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 コンサルティング
〒564-0051 大阪府吹田市豊津町1番18号 エクラート江坂ビル４Ｆ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標
