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ギガフォトン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第821位 36件
（
2018年：第608位 49件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第612位 37件
（2018年：第581位 42件）
（ランキング更新日：2026年2月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ギガフォトン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6616427 | 極端紫外光生成装置 | 2019年12月 4日 | |
| 特許 6608939 | レーザシステム | 2019年11月20日 | |
| 特許 6600688 | ターゲット収容装置 | 2019年10月30日 | |
| 特許 6592784 | 固体レーザシステムおよびエキシマレーザシステム | 2019年10月23日 | |
| 特許 6594490 | 極端紫外光生成システム | 2019年10月23日 | |
| 特許 6595012 | 狭帯域化レーザ装置 | 2019年10月23日 | |
| 特許 6587676 | ビームダンプ装置、それを備えたレーザ装置および極端紫外光生成装置 | 2019年10月 9日 | |
| 特許 6585174 | 狭帯域化レーザ装置 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6581077 | レーザシステム又はレーザ露光システム | 2019年 9月25日 | |
| 特許 6577870 | ターゲット供給装置 | 2019年 9月18日 | |
| 特許 6577871 | 極端紫外光生成装置 | 2019年 9月18日 | |
| 特許 6568051 | レーザチャンバ | 2019年 8月28日 | |
| 特許 6568311 | レーザ装置 | 2019年 8月28日 | |
| 特許 6563905 | ターゲット供給装置およびＥＵＶ光生成装置 | 2019年 8月21日 | |
| 特許 6564451 | 極端紫外光生成装置及びその設計方法 | 2019年 8月21日 |
38 件中 1-15 件を表示
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6616427 6608939 6600688 6592784 6594490 6595012 6587676 6585174 6581077 6577870 6577871 6568051 6568311 6563905 6564451
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