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ギガフォトン株式会社

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  2013年 出願公開件数ランキング    第520位 74件 上昇2012年:第867位 34件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第699位 46件 上昇2012年:第1187位 23件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5374724 選択 極端紫外光源装置 2013年12月25日
特許 5376908 選択 2ステージレーザ装置および2ステージレーザ装置に適用される調整方法 2013年12月25日
特許 5371208 選択 2ステージレーザのパルスエネルギー制御装置 2013年12月18日
特許 5368764 選択 極端紫外光源装置及び極端紫外光の生成方法 2013年12月18日
特許 5368261 選択 極端紫外光源装置、極端紫外光源装置の制御方法 2013年12月18日
特許 5368221 選択 極端紫外光源装置 2013年12月18日
特許 5362515 選択 極端紫外光源装置のターゲット供給装置及びその製造方法 2013年12月11日
特許 5362076 選択 極端紫外光用ミラー、極端紫外光用ミラーの製造方法及び極端紫外光生成装置 2013年12月11日
特許 5358060 選択 極端紫外光源装置 2013年12月 4日
特許 5358142 選択 ガスレーザ用光学素子及びそれを用いたガスレーザ装置 2013年12月 4日
特許 5352321 選択 露光用ガスレーザ装置 2013年11月27日 共同出願
特許 5335298 選択 極端紫外光源装置及び極端紫外光の生成方法 2013年11月 6日
特許 5335269 選択 極端紫外光源装置 2013年11月 6日
特許 5314433 選択 極端紫外光源装置 2013年10月16日
特許 5312837 選択 極端紫外光源装置 2013年10月 9日 共同出願

46 件中 1-15 件を表示

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5374724 5376908 5371208 5368764 5368261 5368221 5362515 5362076 5358060 5358142 5352321 5335298 5335269 5314433 5312837

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