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ギガフォトン株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第520位 74件
（
2012年：第867位 34件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第699位 46件
（2012年：第1187位 23件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ギガフォトン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5374724 | 極端紫外光源装置 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5376908 | ２ステージレーザ装置および２ステージレーザ装置に適用される調整方法 | 2013年12月25日 | |
| 特許 5371208 | ２ステージレーザのパルスエネルギー制御装置 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5368764 | 極端紫外光源装置及び極端紫外光の生成方法 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5368261 | 極端紫外光源装置、極端紫外光源装置の制御方法 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5368221 | 極端紫外光源装置 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5362515 | 極端紫外光源装置のターゲット供給装置及びその製造方法 | 2013年12月11日 | |
| 特許 5362076 | 極端紫外光用ミラー、極端紫外光用ミラーの製造方法及び極端紫外光生成装置 | 2013年12月11日 | |
| 特許 5358060 | 極端紫外光源装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5358142 | ガスレーザ用光学素子及びそれを用いたガスレーザ装置 | 2013年12月 4日 | |
| 特許 5352321 | 露光用ガスレーザ装置 | 2013年11月27日 | 共同出願 |
| 特許 5335298 | 極端紫外光源装置及び極端紫外光の生成方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5335269 | 極端紫外光源装置 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5314433 | 極端紫外光源装置 | 2013年10月16日 | |
| 特許 5312837 | 極端紫外光源装置 | 2013年10月 9日 | 共同出願 |
46 件中 1-15 件を表示
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5374724 5376908 5371208 5368764 5368261 5368221 5362515 5362076 5358060 5358142 5352321 5335298 5335269 5314433 5312837
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