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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第107位 423件
（
2014年：第59位 659件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第95位 287件
（2014年：第54位 625件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5740264 | 自動分析装置及び分析方法 | 2015年 6月24日 | |
| 特許 5740525 | イオン化方法、イオン化装置及び質量分析システム。 | 2015年 6月24日 | |
| 特許 5735262 | 荷電粒子光学装置及びレンズ収差測定方法 | 2015年 6月17日 | |
| 特許 5736280 | 自動分析装置 | 2015年 6月17日 | |
| 特許 5736457 | 固相抽出装置 | 2015年 6月17日 | |
| 特許 5730521 | 熱処理装置 | 2015年 6月10日 | |
| 特許 5730721 | パターン計測装置、およびパターン計測方法 | 2015年 6月10日 | |
| 特許 5730785 | 自動分析装置 | 2015年 6月10日 | |
| 特許 5731881 | プラズマ処理装置及びその運転方法 | 2015年 6月10日 | |
| 特許 5732006 | 試料冷却ホルダー及び冷却源容器 | 2015年 6月10日 | |
| 特許 5732421 | イオンミリング装置 | 2015年 6月10日 | |
| 特許 5732521 | 自動分析装置 | 2015年 6月10日 | |
| 特許 5732548 | 露光装置、及び構造の生産方法 | 2015年 6月10日 | |
| 特許 5727322 | 半導体検査システム | 2015年 6月 3日 | |
| 特許 5727535 | 自動分析装置、その情報表示方法、および情報表示システム | 2015年 6月 3日 |
288 件中 136-150 件を表示
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5740264 5740525 5735262 5736280 5736457 5730521 5730721 5730785 5731881 5732006 5732421 5732521 5732548 5727322 5727535
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