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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第182位 243件
（
2015年：第107位 423件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第89位 360件
（
2015年：第95位 287件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5973898 | 分析装置、試料分析方法、及びコンピュータ読取可能な記憶媒体 | 2016年 8月23日 | |
| 特許 5974142 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2016年 8月23日 | |
| 特許 5974390 | 液体クロマトグラフ装置 | 2016年 8月23日 | |
| 特許 5975744 | イオン選択性電極及び分析装置 | 2016年 8月23日 | |
| 特許 5975754 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2016年 8月23日 | |
| 特許 5975755 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2016年 8月23日 | |
| 特許 5975772 | 自動分析装置 | 2016年 8月23日 | |
| 特許 5976147 | 荷電粒子線装置、荷電粒子線装置の調整方法、および試料の検査若しくは試料の観察方法。 | 2016年 8月23日 | |
| 特許 5969586 | イオンビーム装置 | 2016年 8月17日 | |
| 特許 5969876 | 熱アシスト磁気ヘッド検査方法および熱アシスト磁気ヘッド検査装置 | 2016年 8月17日 | |
| 特許 5969915 | 微細パターンの断面形状測定方法及びその装置 | 2016年 8月17日 | |
| 特許 5970199 | 荷電粒子線装置 | 2016年 8月17日 | |
| 特許 5970229 | 試料の寸法測定方法、および荷電粒子線装置 | 2016年 8月17日 | |
| 特許 5970268 | プラズマ処理装置および処理方法 | 2016年 8月17日 | |
| 特許 5970274 | 質量分析装置 | 2016年 8月17日 |
362 件中 136-150 件を表示
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5973898 5974142 5974390 5975744 5975754 5975755 5975772 5976147 5969586 5969876 5969915 5970199 5970229 5970268 5970274
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