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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第182位 243件
（
2015年：第107位 423件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第89位 360件
（
2015年：第95位 287件）
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6047672 | 真空処理装置 | 2016年12月21日 | |
| 特許 6049052 | ウエハ外観検査装置及びウエハ外観検査装置における感度しきい値設定方法 | 2016年12月21日 | |
| 特許 6049101 | 検査装置 | 2016年12月21日 | |
| 特許 6050939 | 容器及び容器を保持する装置 | 2016年12月21日 | |
| 特許 6051014 | 試料格納用容器、荷電粒子線装置、及び画像取得方法 | 2016年12月21日 | |
| 特許 6042213 | 凹面光学素子の測定装置及び凹面回折格子の測定装置並びに平面回折格子の測定装置 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6043476 | イオン源およびそれを用いたイオンビーム装置 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6043528 | パターン測定装置 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6043529 | パターン測定装置、及び輪郭線抽出装置 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6043568 | 質量分析装置、質量分析方法、及びイオン源 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6043735 | 画像評価装置及びパターン形状評価装置 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6043813 | 表面計測装置 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6043852 | プラズマ処理装置 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6037693 | 荷電粒子線装置 | 2016年12月 7日 | |
| 特許 6037701 | 免疫分析装置 | 2016年12月 7日 |
362 件中 16-30 件を表示
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6047672 6049052 6049101 6050939 6051014 6042213 6043476 6043528 6043529 6043568 6043735 6043813 6043852 6037693 6037701
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