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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第318位 109件
(2022年:第291位 121件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第281位 118件
(2022年:第243位 132件)
(ランキング更新日:2025年3月28日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2023-111856 | 組成物、及び硬化物 | 2023年 8月10日 | |
特開 2023-111857 | ナノ粒子、ナノ粒子分散液、及びナノ粒子の製造方法 | 2023年 8月10日 | |
特開 2023-109483 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び、化合物 | 2023年 8月 8日 | |
特開 2023-108227 | ナノインプリント用組成物及びパターン形成方法 | 2023年 8月 4日 | |
特開 2023-108423 | 積層体、及び積層体の製造方法 | 2023年 8月 4日 | |
特開 2023-107638 | 導電体表面用撥水剤、導電体表面の撥水化方法、導電体表面を有する領域を選択的に撥水化する方法、表面処理方法、及び基板表面の領域選択的製膜方法 | 2023年 8月 3日 | |
特開 2023-106887 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び、化合物 | 2023年 8月 2日 | |
特開 2023-101149 | レジスト下層膜形成用組成物、レジストパターン形成方法、レジスト下層膜パターンの形成方法、及びパターン形成方法 | 2023年 7月20日 | |
特開 2023-97940 | 感光性組成物 | 2023年 7月10日 | |
特開 2023-98232 | 洗浄液、及び基板の洗浄方法 | 2023年 7月10日 | |
特開 2023-98236 | 洗浄液、及び基板の洗浄方法 | 2023年 7月10日 | |
特開 2023-97214 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2023年 7月 7日 | |
特開 2023-95598 | ネガ型感光性組成物及びパターン形成方法 | 2023年 7月 6日 | |
特開 2023-90300 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2023年 6月29日 | |
特開 2023-90404 | ワニス組成物、ワニス組成物の製造方法、及びポリイミド樹脂の製造方法 | 2023年 6月29日 |
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