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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第318位 109件
(2022年:第291位 121件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第281位 118件
(2022年:第243位 132件)
(ランキング更新日:2025年3月28日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2023-37480 | ネガ型感光性組成物、パターン形成方法及び中空パッケージの製造方法 | 2023年 3月15日 | |
特開 2023-36946 | 相分離構造形成用樹脂組成物、相分離構造を含む構造体の製造方法、及びブロックコポリマー | 2023年 3月14日 | |
特開 2023-34044 | 積層体の製造方法、硬化パターン形成方法、積層体及び感光性組成物 | 2023年 3月13日 | |
特開 2023-34976 | 着色感光性樹脂組成物、及びパターン化された硬化物の製造方法 | 2023年 3月13日 | |
特開 2023-33590 | 気体分離方法、及び気体分離膜 | 2023年 3月10日 | |
特開 2023-32149 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤、酸拡散制御剤、及び高分子化合物 | 2023年 3月 9日 | |
特開 2023-24144 | 硬化性組成物、硬化物、硬化膜、表示パネル、及び硬化物の製造方法 | 2023年 2月16日 | |
特開 2023-24450 | メルカプト化合物 | 2023年 2月16日 | |
特開 2023-22080 | 表面処理方法、表面処理剤、及び基板上に領域選択的に製膜する方法 | 2023年 2月14日 | |
特開 2023-18529 | エッチング液及びエッチング方法 | 2023年 2月 8日 | |
特開 2023-17484 | 表面処理剤、表面処理方法及び基板表面の領域選択的製膜方法 | 2023年 2月 7日 | |
特開 2023-17706 | 表面処理剤、表面処理方法及び基板表面の領域選択的製膜方法 | 2023年 2月 7日 | |
特開 2023-15197 | 撥液処理剤、及び被処理体の位置選択的撥液化方法 | 2023年 1月31日 | |
特開 2023-10711 | レジスト組成物精製品、及びレジストパターン形成方法 | 2023年 1月20日 | |
特開 2023-6479 | 金属酸化物膜形成性組成物、及びこれを用いた金属酸化物膜の製造方法 | 2023年 1月18日 |
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2023-37480 2023-36946 2023-34044 2023-34976 2023-33590 2023-32149 2023-24144 2023-24450 2023-22080 2023-18529 2023-17484 2023-17706 2023-15197 2023-10711 2023-6479
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