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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第195位 221件
(2010年:第150位 334件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第419位 79件
(2010年:第455位 62件)
(ランキング更新日:2025年2月28日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-18739 | エピタキシャルウェーハおよびその製造方法 | 2011年 1月27日 | |
特開 2011-18725 | エピタキシャルウェーハおよびその製造方法 | 2011年 1月27日 | |
特開 2011-18773 | シリコン基板のスリップ検出方法 | 2011年 1月27日 | |
特開 2011-14561 | シリコンインゴットの切断方法 | 2011年 1月20日 | |
特開 2011-11307 | ウェーハ研磨用スラリーのリサイクル方法およびそのリサイクル装置 | 2011年 1月20日 | |
特開 2011-14771 | エピタキシャル成長方法 | 2011年 1月20日 | |
特開 2011-11939 | シリコン単結晶の製造方法及びシリコンウェーハ | 2011年 1月20日 | |
特開 2011-14800 | エピタキシャル層の膜厚測定方法、エピタキシャルウェーハの製造方法およびエピタキシャルウェーハの製造工程管理方法 | 2011年 1月20日 | |
特開 2011-14501 | イオナイザーの管理方法及びその装置 | 2011年 1月20日 | |
特開 2011-5818 | 太陽電池用シリコンインゴットの切断方法 | 2011年 1月13日 | |
特開 2011-5604 | 単結晶インゴットの円筒研削方法 | 2011年 1月13日 | |
特開 2011-9597 | 熱処理用治具の清浄化方法 | 2011年 1月13日 | |
特開 2011-9614 | エピタキシャルシリコンウェーハとその製造方法 | 2011年 1月13日 | |
特開 2011-9613 | エピタキシャルシリコンウェーハとその製造方法 | 2011年 1月13日 | |
特開 2011-9582 | SOIウェーハの製造方法 | 2011年 1月13日 |
221 件中 196-210 件を表示
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2011-18739 2011-18725 2011-18773 2011-14561 2011-11307 2011-14771 2011-11939 2011-14800 2011-14501 2011-5818 2011-5604 2011-9597 2011-9614 2011-9613 2011-9582
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