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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第195位 221件
(2010年:第150位 334件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第419位 79件
(2010年:第455位 62件)
(ランキング更新日:2025年3月28日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-237302 | ウェーハ欠陥検査装置及びウェーハ欠陥検査方法 | 2011年11月24日 | |
特開 2011-238664 | シリコンウェーハの熱処理方法 | 2011年11月24日 | |
特開 2011-230232 | 研削加工中の砥石の品質管理方法 | 2011年11月17日 | |
特開 2011-233761 | ボロンドープp型シリコン中の鉄濃度測定方法およびボロンドープp型シリコンウェーハの製造方法 | 2011年11月17日 | |
特開 2011-232267 | 半導体ウェーハの表面検査方法および表面検査装置、ならびに半導体ウェーハの製造方法 | 2011年11月17日 | |
再表 2009-151077 | シリコン単結晶ウェーハの製造方法およびシリコン単結晶ウェーハ | 2011年11月17日 | |
特開 2011-233815 | 基板の製造方法及び基板 | 2011年11月17日 | |
特開 2011-230209 | 研磨液分配装置及びこれを備えた研磨装置 | 2011年11月17日 | |
特開 2011-230219 | ウェーハの研磨方法、研磨パッド、研磨装置 | 2011年11月17日 | |
特開 2011-225399 | シリコン系太陽電池用原料の製造方法 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-228478 | ウェーハ評価方法 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-225398 | シリコン系太陽電池用原料の製造方法 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-225405 | シリコン結晶の製造方法 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-228459 | シリコンウェーハ及びその製造方法 | 2011年11月10日 | |
再表 2009-150896 | シリコンエピタキシャルウェーハ及びその製造方法 | 2011年11月10日 |
221 件中 16-30 件を表示
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2011-237302 2011-238664 2011-230232 2011-233761 2011-232267 2009-151077 2011-233815 2011-230209 2011-230219 2011-225399 2011-228478 2011-225398 2011-225405 2011-228459 2009-150896
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