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株式会社ＳＵＭＣＯ

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　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第737位　41件（2013年：第585位　64件）

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株式会社ＳＵＭＣＯの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2014-111545	シリコンウェーハの製造方法	2014年 6月19日
特開 2014-111540	シリコン単結晶およびその製造方法	2014年 6月19日
特開 2014-107374	半導体試料の電気的評価方法および評価装置	2014年 6月 9日
再表 2012-90366	ワークの研磨方法	2014年 6月 5日
特開 2014-99477	貼り合わせウェーハの製造方法および貼り合わせウェーハ	2014年 5月29日
特開 2014-99478	エピタキシャルシリコンウェーハの汚染評価方法およびエピタキシャル成長装置炉内の汚染評価方法	2014年 5月29日
特開 2014-99472	半導体エピタキシャルウェーハの製造方法、半導体エピタキシャルウェーハ、および固体撮像素子の製造方法	2014年 5月29日
特開 2014-99465	エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法、エピタキシャルシリコンウェーハ、および固体撮像素子の製造方法	2014年 5月29日
特開 2014-99457	半導体エピタキシャルウェーハの製造方法、半導体エピタキシャルウェーハ、および固体撮像素子の製造方法	2014年 5月29日
特開 2014-99456	半導体エピタキシャルウェーハの製造方法、半導体エピタキシャルウェーハ、および固体撮像素子の製造方法	2014年 5月29日
特開 2014-99454	半導体エピタキシャルウェーハの製造方法、半導体エピタキシャルウェーハ、および固体撮像素子の製造方法	2014年 5月29日
特開 2014-99451	エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法、エピタキシャルシリコンウェーハ、および固体撮像素子の製造方法	2014年 5月29日
特開 2014-99482	半導体エピタキシャルウェーハの製造方法、半導体エピタキシャルウェーハ、および固体撮像素子の製造方法	2014年 5月29日
特開 2014-99479	エピタキシャル成長装置炉内の汚染評価方法および汚染評価用テストウェーハ	2014年 5月29日
特開 2014-99481	エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法、エピタキシャルシリコンウェーハ、および固体撮像素子の製造方法	2014年 5月29日

41 件中 16-30 件を表示

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2014-111545 2014-111540 2014-107374 2012-90366 2014-99477 2014-99478 2014-99472 2014-99465 2014-99457 2014-99456 2014-99454 2014-99451 2014-99482 2014-99479 2014-99481

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