株式会社ＳＵＭＣＯ
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第585位 64件
（
2012年：第289位 146件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第276位 144件
（
2012年：第367位 99件）
（ランキング更新日：2024年11月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ＳＵＭＣＯの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2013-82037 | 砥粒チャージ方法及び硬脆性基板の製造方法 | 2013年 5月 9日 | |
| 再表 2011-70741 | ＣＶＤ用トレーおよびそれを用いた成膜方法 | 2013年 4月22日 | |
| 特開 2013-74135 | 太陽電池用ウェーハ、太陽電池用ウェーハの製造方法、太陽電池セルの製造方法、および太陽電池モジュールの製造方法 | 2013年 4月22日 | |
| 再表 2011-68236 | ウェーハの研磨方法 | 2013年 4月22日 | |
| 特開 2013-70091 | エピタキシャルウェーハとその製造方法 | 2013年 4月18日 | |
| 特開 2013-58692 | 半導体ウェーハの洗浄装置及び洗浄方法 | 2013年 3月28日 | |
| 特開 2013-49586 | シリコンインゴットの連続鋳造方法 | 2013年 3月14日 | |
| 特開 2013-51290 | サセプタ、該サセプタを用いた気相成長装置およびエピタキシャルウェーハの製造方法 | 2013年 3月14日 | |
| 特開 2013-51348 | エピタキシャルウェーハ及びその製造方法 | 2013年 3月14日 | |
| 特開 2013-51291 | シリコンウェーハ加工量の評価方法および評価用シリコンウェーハ | 2013年 3月14日 | |
| 特開 2013-45955 | シミュレーションによるレーザースパイクアニールを施す際に生じる酸素析出物からの発生転位予測方法 | 2013年 3月 4日 | |
| 特開 2013-45909 | 半導体ウェーハの製造方法 | 2013年 3月 4日 | |
| 特開 2013-32282 | シリコン単結晶インゴット | 2013年 2月14日 | |
| 再表 2011-33752 | エピタキシャルウェーハの製造方法および製造装置 | 2013年 2月 7日 | |
| 特開 2013-26571 | 太陽電池用ウェーハの製造方法、太陽電池セルの製造方法、および太陽電池モジュールの製造方法 | 2013年 2月 4日 |
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2013-82037 2011-70741 2013-74135 2011-68236 2013-70091 2013-58692 2013-49586 2013-51290 2013-51348 2013-51291 2013-45955 2013-45909 2013-32282 2011-33752 2013-26571
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