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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第195位 221件
(2010年:第150位 334件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第419位 79件
(2010年:第455位 62件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2011-82453 | 貼り合わせシリコンウェーハの製造方法及び製造装置 | 2011年 4月21日 | |
特開 2011-82443 | エピタキシャルウェーハおよびその製造方法 | 2011年 4月21日 | |
特開 2011-82372 | シリコンウェーハの洗浄溶液およびそれを使用した洗浄方法 | 2011年 4月21日 | |
再表 2009-72406 | シリコンウェーハ洗浄方法およびその装置 | 2011年 4月21日 | |
特開 2011-77476 | エピタキシャル成長用サセプタ | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-71283 | 貼合せSOIウェーハ及びその製造方法 | 2011年 4月 7日 | |
特開 2011-68531 | シリコン単結晶の引上げ方法 | 2011年 4月 7日 | |
特開 2011-71505 | 固体撮像素子用半導体ウェーハの薄膜化制御方法 | 2011年 4月 7日 | |
特開 2011-71193 | 貼合せSOIウェーハ及びその製造方法 | 2011年 4月 7日 | |
特開 2011-62789 | 研磨方法及びその装置 | 2011年 3月31日 | 共同出願 |
特開 2011-62759 | 両面研磨装置の研磨布の研削方法及び研削装置 | 2011年 3月31日 | 共同出願 |
特開 2011-62758 | 両面研磨装置の研磨布の洗浄方法及び洗浄装置 | 2011年 3月31日 | 共同出願 |
特開 2011-66283 | ウェーハ貼り合わせ装置及び貼り合わせウェーハの製造方法 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-57456 | 単結晶の製造方法及び単結晶 | 2011年 3月24日 | |
特開 2011-61060 | 貼り合わせ基板の製造方法 | 2011年 3月24日 |
221 件中 121-135 件を表示
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2011-82453 2011-82443 2011-82372 2009-72406 2011-77476 2011-71283 2011-68531 2011-71505 2011-71193 2011-62789 2011-62759 2011-62758 2011-66283 2011-57456 2011-61060
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2月19日(水) -
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2月19日(水) -
2月19日(水) -
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2月19日(水) -
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2月20日(木) -
2月20日(木) -
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
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2月25日(火) -
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2月26日(水) -
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2月26日(水) -
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2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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