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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第430位 93件
(2012年:第437位 89件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第457位 78件
(2012年:第478位 72件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2013-513961 | EUVリソグラフィ用反射光学素子 | 2013年 4月22日 | |
特開 2013-74299 | マイクロリソグラフィ投影露光装置 | 2013年 4月22日 | |
特開 2013-70087 | 液浸リソグラフィー用投影対物レンズ | 2013年 4月18日 | |
特開 2013-65857 | マイクロリソグラフィ投影露光装置 | 2013年 4月11日 | |
特開 2013-65051 | 入射瞳のバック・フォーカスが負である投影対物系および投影露光装置 | 2013年 4月11日 | |
特表 2013-511141 | 結像光学系 | 2013年 3月28日 | |
特開 2013-58801 | リソグラフィ投影対物器械を修正/修理する方法 | 2013年 3月28日 | |
特開 2013-50722 | 光学素子 | 2013年 3月14日 | |
特開 2013-51424 | 光学結像装置 | 2013年 3月14日 | |
特表 2013-509603 | 反射光学構成要素と測定デバイスとを含む反射屈折投影対物系 | 2013年 3月14日 | |
特開 2013-48289 | 光源の変動を測定するためのシステムを備えたEUV照明システム | 2013年 3月 7日 | |
特開 2013-47836 | 光学モジュール | 2013年 3月 7日 | |
特開 2013-42147 | 半導体リソグラフィー用のミラーアレンジメントを製造する方法、及び、電磁放射線の反射用のミラーアレンジメント | 2013年 2月28日 | |
特開 2013-42155 | 反射屈折投影対物系 | 2013年 2月28日 | |
特表 2013-506978 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学構成体 | 2013年 2月28日 |
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2013-513961 2013-74299 2013-70087 2013-65857 2013-65051 2013-511141 2013-58801 2013-50722 2013-51424 2013-509603 2013-48289 2013-47836 2013-42147 2013-42155 2013-506978
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