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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

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  2013年 出願公開件数ランキング    第430位 93件 上昇2012年:第437位 89件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第457位 78件 上昇2012年:第478位 72件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特表 2013-506979 マイクロリソグラフィのための照明光学ユニット 2013年 2月28日
特表 2013-506277 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学システム 2013年 2月21日
特表 2013-506279 光学システムの、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学構成体 2013年 2月21日
特開 2013-37371 反射屈折投影対物レンズ 2013年 2月21日
特表 2013-506306 偏向ミラーを含む反射屈折投影対物系及び投影露光方法 2013年 2月21日
特表 2013-506308 反射光学素子及びEUVリソグラフィ装置を作動させる方法 2013年 2月21日
特表 2013-506281 EUVリソグラフィ用投影露光装置の光学構成体 2013年 2月21日
特開 2013-38440 対象物表面の所定の照明領域をEUV照射によって照らすための照明システム 2013年 2月21日
特開 2013-33286 瞳補正を有する反射屈折投影対物系 2013年 2月14日
特表 2013-504762 光学表面の形状を測定する方法及び干渉測定デバイス 2013年 2月 7日
特表 2013-504787 マイクロリソグラフィ投影露光装置で使用するミラー 2013年 2月 7日
特表 2013-504218 表面外形(SURFACEFIGURE)変形の少ない光学素子 2013年 2月 4日
特開 2013-16811 結像誤差の判断を備えた光学結像装置 2013年 1月24日 共同出願
特表 2013-502705 反射光学素子及びその生産方法 2013年 1月24日 共同出願
特表 2013-502707 EUVマイクロリソグラフィー用基板及びミラーとその製造方法 2013年 1月24日

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2013-506979 2013-506277 2013-506279 2013-37371 2013-506306 2013-506308 2013-506281 2013-38440 2013-33286 2013-504762 2013-504787 2013-504218 2013-16811 2013-502705 2013-502707

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