特許ランキング - 出願人詳細情報 -

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

※ ログインすれば出願人(カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2013年出願公開件数ランキング　　　第430位　93件（2012年：第437位　89件）

　■　2013年特許取得件数ランキング　　　第457位　78件（2012年：第478位　72件）

（ランキング更新日：2025年6月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 5323335	光学素子ユニット及び光学素子の支持方法	2013年10月23日
特許 5319766	マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系及びマイクロリソグラフィ露光方法	2013年10月16日
特許 5319706	照明光学系及び投影露光装置	2013年10月16日
特許 5317156	マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ	2013年10月16日
特許 5314193	反射光学素子及びその生産方法	2013年10月16日	共同出願
特許 5319789	結像光学系及びこの種の結像光学系を有するマイクロリソグラフィ用の投影露光装置	2013年10月16日
特許 5308638	マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系	2013年10月 9日
特許 5302450	光学面から汚染層を除去するための方法、洗浄ガスを生成するための方法、ならびに対応する洗浄および洗浄ガス生成の構造	2013年10月 2日	共同出願
特許 5307728	照射強度分布の測定器および測定方法	2013年10月 2日
特許 5299937	光近接効果を補正する方法	2013年 9月25日
特許 5291002	取替可能なダイアフラムを備える結像装置および方法	2013年 9月18日
特許 5275444	ＥＵＶマイクロリソグラフィ用の投影照明系	2013年 8月28日
特許 5275580	Ｈ２含有量を増加させた合成石英ガラスのレンズを製造するための方法	2013年 8月28日
特許 5268333	ＥＵＶ投影マイクロリソグラフィのための照明光学、照明系及び投影露光装置並びに微細構造素子を製造する方法	2013年 8月21日
特許 5269079	反射コーティングを備えたミラー要素を有する投影対物系	2013年 8月21日

78 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5323335 5319766 5319706 5317156 5314193 5319789 5308638 5302450 5307728 5299937 5291002 5275444 5275580 5268333 5269079

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数