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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第437位 89件 (2011年:第539位 67件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第478位 72件 (2011年:第817位 34件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5008551 | ハウジング構造体 | 2012年 8月22日 | |
特許 4988066 | 調整機能を最適化した投影露光装置 | 2012年 8月 1日 | |
特許 4990287 | 波長が193nm以下の照明システム用集光器 | 2012年 8月 1日 | |
特許 4981177 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系 | 2012年 7月18日 | |
特許 4980922 | マイクロリソグラフィ投影露光装置及びマイクロリソグラフィ投影露光装置の像面湾曲を修正するための方法 | 2012年 7月18日 | |
特許 4978816 | 光学装置及び光学装置の結像挙動を補正又は改善する方法 | 2012年 7月18日 | |
特許 4970533 | EUVリソグラフィ用照明システム及びこの種の照明システムに使用する第1及び第2の光学要素 | 2012年 7月11日 | |
特許 4967075 | EUVリソグラフィのためのウェハチャック | 2012年 7月 4日 | |
特許 4968558 | マイクロリソグラフィのための投影対物器械、その投影対物器械を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置、構成要素のためのマイクロリソグラフィ製造方法、並びにその方法を用いて製造される構成要素 | 2012年 7月 4日 | |
特許 4958562 | 偏光変調光学素子 | 2012年 6月20日 | |
特許 4954067 | カタディオプトリック投影対物レンズ | 2012年 6月13日 | |
特許 4934131 | 光学要素の支持装置 | 2012年 5月16日 | |
特許 4933671 | マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システム | 2012年 5月16日 | |
特許 4927529 | 反射性光学要素およびEUVリソグラフィー装置 | 2012年 5月 9日 | |
特許 4921580 | 反射屈折投影対物系 | 2012年 4月25日 |
72 件中 46-60 件を表示
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5008551 4988066 4990287 4981177 4980922 4978816 4970533 4967075 4968558 4958562 4954067 4934131 4933671 4927529 4921580
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11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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