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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 5432378	ＥＵＶマイクロリソグラフィー用基板及びミラーとその製造方法	2014年 3月 5日
特許 5431345	結像光学系、この種の結像光学系を含むマイクロリソグラフィのための投影露光装置、及びこの種の投影露光装置を用いて微細構造構成要素を生成する方法	2014年 3月 5日
特許 5429937	投影露光システム及びその使用方法	2014年 2月26日
特許 5420130	波面検出装置	2014年 2月19日
特許 5420845	反射屈折投影対物レンズ	2014年 2月19日
特許 5420821	反射屈折投影対物レンズ	2014年 2月19日
特許 5414968	光学撮像システムの測定装置および操作方法	2014年 2月12日
特許 5411296	投影露光システム用の少なくとも１つの磁石を有するアクチュエータ、その製造方法、及び磁石を有する投影露光システム	2014年 2月12日
特許 5404931	偏向ミラーを含む反射屈折投影対物系及び投影露光方法	2014年 2月 5日
特許 5398770	偏光変調光学素子	2014年 1月29日
特許 5401604	光学補正構成体を備える半導体リソグラフィ用の投影露光装置	2014年 1月29日
特許 5396673	投影露光装置、投影露光方法及び投影対物レンズ	2014年 1月22日
特許 5390691	マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系	2014年 1月15日
特許 5390640	結像光学系及びこの種の結像光学系を有するマイクロリソグラフィ用の投影露光装置	2014年 1月15日
特許 5385970	ＥＵＶマイクロリソグラフィ用の照明光学系及びこの種の照明光学系を含む照明系並びに投影露光装置	2014年 1月 8日

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5432378 5431345 5429937 5420130 5420845 5420821 5414968 5411296 5404931 5398770 5401604 5396673 5390691 5390640 5385970

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