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ギガフォトン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第1081位 25件
（
2013年：第520位 74件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第629位 51件
（
2013年：第699位 46件）
（ランキング更新日：2025年5月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ギガフォトン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5474891 | 光源装置及びそれを用いた露光装置 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5474576 | レーザ光増幅器及びそれを用いたレーザ装置 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5454842 | 高繰返し高出力エキシマレーザー装置 | 2014年 3月26日 | |
| 特許 5454881 | 極端紫外光源装置及び極端紫外光の発生方法 | 2014年 3月26日 | |
| 特許 5454978 | レーザ装置管理システム | 2014年 3月26日 | |
| 特許 5455661 | 極端紫外光源装置 | 2014年 3月26日 | |
| 特許 5448775 | 極端紫外光源装置 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5448402 | ガスフロー式ＳＰＦを備えた極端紫外光源装置 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5438460 | 極端紫外光源装置 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5439530 | 露光用放電励起レーザ装置 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5439541 | 極端紫外光を用いる半導体露光装置 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5429956 | エキシマレーザ装置 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5425251 | 露光用放電励起レーザ装置 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5425265 | 極端紫外光源装置 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5429950 | レーザ装置 | 2014年 2月26日 |
51 件中 31-45 件を表示
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5474891 5474576 5454842 5454881 5454978 5455661 5448775 5448402 5438460 5439530 5439541 5429956 5425251 5425265 5429950
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