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株式会社ニューフレアテクノロジー

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  2013年 出願公開件数ランキング    第410位 100件 下降2012年:第343位 120件)

  2013年 特許取得件数ランキング    第439位 82件 上昇2012年:第464位 75件)

(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2013-145873 成膜装置および成膜方法 2013年 7月25日 共同出願
特開 2013-142609 光束分岐素子、およびマスク欠陥検査装置 2013年 7月22日
特開 2013-142774 照明装置、および拡大観察装置 2013年 7月22日
特開 2013-143441 荷電粒子ビーム描画方法、描画粒子ビーム描画プログラムおよび荷電粒子ビーム描画装置 2013年 7月22日
特開 2013-128032 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 2013年 6月27日
特開 2013-128031 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 2013年 6月27日
特開 2013-128086 成膜装置および成膜方法 2013年 6月27日 共同出願
特開 2013-125810 成膜装置および成膜方法 2013年 6月24日
特開 2013-120101 検査装置 2013年 6月17日
特開 2013-120943 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 2013年 6月17日
特開 2013-120833 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 2013年 6月17日
特開 2013-115373 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 2013年 6月10日
特開 2013-115303 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 2013年 6月10日
特開 2013-115304 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 2013年 6月10日
特開 2013-115219 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 2013年 6月10日

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2013-145873 2013-142609 2013-142774 2013-143441 2013-128032 2013-128031 2013-128086 2013-125810 2013-120101 2013-120943 2013-120833 2013-115373 2013-115303 2013-115304 2013-115219

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