ホーム > 特許ランキング > 株式会社ニューフレアテクノロジー > 2014年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(株式会社ニューフレアテクノロジー)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2014年 出願公開件数ランキング 第473位 74件 (2013年:第410位 100件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第336位 115件 (2013年:第439位 82件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2014-157953 | 荷電粒子ビーム描画装置、および荷電粒子ビーム描画方法 | 2014年 8月28日 | |
特開 2014-146767 | 気相成長装置および気相成長方法 | 2014年 8月14日 | |
特開 2014-138050 | 荷電粒子ビーム描画方法 | 2014年 7月28日 | |
特開 2014-138175 | 荷電粒子ビーム描画装置、試料面へのビーム入射角調整方法、および荷電粒子ビーム描画方法 | 2014年 7月28日 | |
特開 2014-138183 | 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 7月28日 | |
特開 2014-137289 | 検査方法 | 2014年 7月28日 | |
特開 2014-137358 | 検査装置 | 2014年 7月28日 | |
特開 2014-127540 | 電子線描画方法、電子線描画装置 | 2014年 7月 7日 | |
特開 2014-127568 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 7月 7日 | |
特開 2014-127569 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 7月 7日 | |
特開 2014-123613 | ドリフト補正方法および描画データの作成方法 | 2014年 7月 3日 | |
特開 2014-120495 | 荷電粒子ビーム描画方法、荷電粒子ビーム描画プログラムおよび荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 6月30日 | |
特開 2014-120630 | 荷電粒子ビーム描画装置、面積密度データの作成方法及びショット数データの作成方法 | 2014年 6月30日 | |
特開 2014-116356 | 半導体製造方法及び半導体製造装置 | 2014年 6月26日 | |
特開 2014-112639 | マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 6月19日 |
74 件中 31-45 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2014-157953 2014-146767 2014-138050 2014-138175 2014-138183 2014-137289 2014-137358 2014-127540 2014-127568 2014-127569 2014-123613 2014-120495 2014-120630 2014-116356 2014-112639
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社ニューフレアテクノロジーの知財の動向チェックに便利です。
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
〒060-0002 札幌市中央区北2条西3丁目1番地太陽生命札幌ビル7階 特許・実用新案 商標 外国特許 訴訟 鑑定 コンサルティング
特許業務法人 藤本パートナーズ 株式会社ネットス 株式会社パトラ
大阪オフィス:大阪市中央区南船場1-15-14 堺筋稲畑ビル2F 5F 東京オフィス:東京都千代田区平河町1-1-8 麹町市原ビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都新宿区新宿5-10-1 第2スカイビル6階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング