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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第376位 103件 (2010年:第347位 127件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第886位 31件 (2010年:第2005位 9件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-85536 | レビュー装置および検査装置システム | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-74466 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-77313 | 荷電粒子ビーム描画装置およびその描画データ作成方法 | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-77180 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビームのアライメント方法 | 2011年 4月14日 | |
特開 2011-63860 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-63859 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66225 | 半導体製造方法 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66264 | 荷電粒子ビーム描画装置およびその近接効果補正方法 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66035 | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66249 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66247 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66215 | 荷電粒子ビーム描画装置および方法 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66054 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66248 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2011年 3月31日 | |
特開 2011-66036 | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2011年 3月31日 |
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2011-85536 2011-74466 2011-77313 2011-77180 2011-63860 2011-63859 2011-66225 2011-66264 2011-66035 2011-66249 2011-66247 2011-66215 2011-66054 2011-66248 2011-66036
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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