特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社ニューフレアテクノロジー

※ ログインすれば出願人(株式会社ニューフレアテクノロジー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第376位　103件（2010年：第347位　127件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第886位　31件（2010年：第2005位　9件）

（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-66036	荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置	2011年 3月31日
特開 2011-66035	荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置	2011年 3月31日
特開 2011-65899	電子銃用のエミッタ製造方法	2011年 3月31日
特開 2011-60804	荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置およびレイアウト表示方法	2011年 3月24日
特開 2011-44464	荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法、および、荷電粒子ビーム描画用データの処理装置	2011年 3月 3日
特開 2011-44463	荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法、および、荷電粒子ビーム描画用データの処理装置	2011年 3月 3日
特開 2011-38149	成膜装置および成膜方法	2011年 2月24日
特開 2011-39013	検査装置および検査方法	2011年 2月24日
特開 2011-38830	検査装置および検査方法	2011年 2月24日
特開 2011-40614	荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法および振動成分抽出方法	2011年 2月24日
特開 2011-40694	荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法	2011年 2月24日
特開 2011-40680	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法	2011年 2月24日
特開 2011-40672	基板処理方法	2011年 2月24日
特開 2011-40466	荷電粒子ビーム描画装置、偏向器間のタイミング調整方法、及び偏向アンプの故障検出方法	2011年 2月24日
特開 2011-40450	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法	2011年 2月24日

103 件中 76-90 件を表示

... 6

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-66036 2011-66035 2011-65899 2011-60804 2011-44464 2011-44463 2011-38149 2011-39013 2011-38830 2011-40614 2011-40694 2011-40680 2011-40672 2011-40466 2011-40450

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社ニューフレアテクノロジーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数