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株式会社ニューフレアテクノロジー

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  2011年 出願公開件数ランキング    第376位 103件 下降2010年:第347位 127件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第886位 31件 上昇2010年:第2005位 9件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-66036 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 2011年 3月31日
特開 2011-66035 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 2011年 3月31日
特開 2011-65899 電子銃用のエミッタ製造方法 2011年 3月31日
特開 2011-60804 荷電粒子ビーム描画装置、パターン検査装置およびレイアウト表示方法 2011年 3月24日
特開 2011-44464 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法、および、荷電粒子ビーム描画用データの処理装置 2011年 3月 3日
特開 2011-44463 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法、および、荷電粒子ビーム描画用データの処理装置 2011年 3月 3日
特開 2011-38149 成膜装置および成膜方法 2011年 2月24日
特開 2011-39013 検査装置および検査方法 2011年 2月24日
特開 2011-38830 検査装置および検査方法 2011年 2月24日
特開 2011-40614 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法および振動成分抽出方法 2011年 2月24日
特開 2011-40694 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 2011年 2月24日
特開 2011-40680 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 2011年 2月24日
特開 2011-40672 基板処理方法 2011年 2月24日
特開 2011-40466 荷電粒子ビーム描画装置、偏向器間のタイミング調整方法、及び偏向アンプの故障検出方法 2011年 2月24日
特開 2011-40450 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 2011年 2月24日

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2011-66036 2011-66035 2011-65899 2011-60804 2011-44464 2011-44463 2011-38149 2011-39013 2011-38830 2011-40614 2011-40694 2011-40680 2011-40672 2011-40466 2011-40450

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