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株式会社ニューフレアテクノロジー
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（
2012年：第343位 120件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第439位 82件
（
2012年：第464位 75件）
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5305641 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2013年10月 2日 | |
| 特許 5305601 | 描画装置内の演算処理装置の割当て方法 | 2013年10月 2日 | |
| 特許 5302606 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年10月 2日 | |
| 特許 5306432 | 気相成長方法 | 2013年10月 2日 | |
| 特許 5301312 | 荷電粒子ビーム描画装置の較正用基板及び描画方法 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5297736 | 高さ測定方法、荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 | 2013年 9月25日 | |
| 特許 5283370 | 気相成長装置および気相成長方法 | 2013年 9月 4日 | |
| 特許 5280064 | 電子ビーム描画装置 | 2013年 9月 4日 | |
| 特許 5275935 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5274293 | マスク検査装置、それを用いた露光方法及びマスク検査方法 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5274176 | マスク検査装置及びマスク検査方法 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5274239 | 成膜装置 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5271648 | 半導体製造方法および半導体製造装置 | 2013年 8月21日 | |
| 特許 5264384 | 気相成長装置及び気相成長方法 | 2013年 8月14日 | |
| 特許 5256365 | 半導体装置の製造方法及び露光用マスクへのパターン形成方法 | 2013年 8月 7日 |
82 件中 16-30 件を表示
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5305641 5305601 5302606 5306432 5301312 5297736 5283370 5280064 5275935 5274293 5274176 5274239 5271648 5264384 5256365
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