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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第450位 88件
(2016年:第354位 106件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第453位 58件
(2016年:第493位 56件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6252403 | アパーチャ部材製造方法 | 2017年12月27日 | |
特許 6253924 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2017年12月27日 | |
特許 6255191 | 検査装置および検査方法 | 2017年12月27日 | |
特許 6251559 | 試料支持装置 | 2017年12月20日 | |
特許 6251647 | マスク検査装置及びマスク検査方法 | 2017年12月20日 | |
特許 6251648 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2017年12月20日 | |
特許 6248134 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2017年12月13日 | |
特許 6240045 | 異常検出方法及び電子線描画装置 | 2017年11月29日 | |
特許 6236216 | 検査装置および検査方法 | 2017年11月22日 | |
特許 6230881 | マルチ荷電粒子ビームのブランキング装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2017年11月15日 | |
特許 6226677 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2017年11月 8日 | |
特許 6228751 | 検査装置 | 2017年11月 8日 | |
特許 6220521 | 検査装置 | 2017年10月25日 | |
特許 6220553 | 焦点位置調整方法および検査方法 | 2017年10月25日 | |
特許 6214441 | 偏向器用クリーニング装置及び偏向器のクリーニング方法 | 2017年10月18日 |
59 件中 1-15 件を表示
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6252403 6253924 6255191 6251559 6251647 6251648 6248134 6240045 6236216 6230881 6226677 6228751 6220521 6220553 6214441
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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