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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第450位 88件
(2016年:第354位 106件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第453位 58件
(2016年:第493位 56件)
(ランキング更新日:2025年4月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6252403
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アパーチャ部材製造方法 | 2017年12月27日 | |
特許 6253924
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荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2017年12月27日 | |
特許 6255191
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検査装置および検査方法 | 2017年12月27日 | |
特許 6251559
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試料支持装置 | 2017年12月20日 | |
特許 6251647
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マスク検査装置及びマスク検査方法 | 2017年12月20日 | |
特許 6251648
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荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2017年12月20日 | |
特許 6248134
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荷電粒子ビーム描画装置 | 2017年12月13日 | |
特許 6240045
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異常検出方法及び電子線描画装置 | 2017年11月29日 | |
特許 6236216
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検査装置および検査方法 | 2017年11月22日 | |
特許 6230881
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マルチ荷電粒子ビームのブランキング装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2017年11月15日 | |
特許 6226677
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半導体製造装置および半導体製造方法 | 2017年11月 8日 | |
特許 6228751
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検査装置 | 2017年11月 8日 | |
特許 6220521
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検査装置 | 2017年10月25日 | |
特許 6220553
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焦点位置調整方法および検査方法 | 2017年10月25日 | |
特許 6214441
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偏向器用クリーニング装置及び偏向器のクリーニング方法 | 2017年10月18日 |
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6252403 6253924 6255191 6251559 6251647 6251648 6248134 6240045 6236216 6230881 6226677 6228751 6220521 6220553 6214441
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4月9日(水) -
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4月15日(火) - 大阪 大阪市
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4月16日(水) - 東京 大田
4月16日(水) -
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4月16日(水) -
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4月17日(木) - 東京 大田
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4月18日(金) -
4月18日(金) - 北海道 千代田区
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