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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第354位 106件
（
2015年：第475位 70件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第493位 56件
（
2015年：第385位 67件）
（ランキング更新日：2025年12月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6047418 | 検査方法および検査装置 | 2016年12月21日 | |
| 特許 6042158 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6043125 | セトリング時間の取得方法 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6043583 | 焦点位置検出装置、検査装置、焦点位置検出方法および検査方法 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6043662 | 検査方法および検査装置 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6038618 | 成膜装置および成膜方法 | 2016年12月 7日 | |
| 特許 6039970 | セトリング時間の設定方法、荷電粒子ビーム描画方法、および荷電粒子ビーム描画装置 | 2016年12月 7日 | |
| 特許 6040046 | 荷電粒子ビーム描画装置、および荷電粒子ビーム描画方法 | 2016年12月 7日 | |
| 特許 6025419 | 検査方法および検査装置 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6025489 | 検査装置および検査装置システム | 2016年11月16日 | |
| 特許 6026333 | 成膜装置および成膜方法 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6027798 | 荷電粒子ビーム描画装置及び多重描画用の荷電粒子ビームの照射時間振り分け方法 | 2016年11月16日 | |
| 特許 6018811 | ドリフト補正方法および描画データの作成方法 | 2016年11月 2日 | |
| 特許 6018929 | 検査方法 | 2016年11月 2日 | |
| 特許 6013089 | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2016年10月25日 |
56 件中 1-15 件を表示
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6047418 6042158 6043125 6043583 6043662 6038618 6039970 6040046 6025419 6025489 6026333 6027798 6018811 6018929 6013089
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