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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第343位 120件
（
2011年：第376位 103件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第464位 75件
（2011年：第886位 31件）
（ランキング更新日：2025年1月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4885000 | 気相成長装置および気相成長方法 | 2012年 2月29日 | |
| 特許 4881074 | 荷電ビーム描画装置の描画回路自己診断方法および荷電ビーム描画装置 | 2012年 2月22日 | |
| 特許 4874714 | アライメントコイルによるビーム軸調整方法及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 2月15日 | |
| 特許 4874842 | 気相成長装置 | 2012年 2月15日 | |
| 特許 4874384 | 基板カバーおよびそれを用いた荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 2月15日 | 共同出願 |
| 特許 4870604 | 気相成長装置 | 2012年 2月 8日 | |
| 特許 4870536 | 気相成長方法 | 2012年 2月 8日 | |
| 特許 4870392 | 電子ビーム描画装置、電子ビームの焦点ずれ補正方法及び電子ビームの焦点ずれ測定方法 | 2012年 2月 8日 | |
| 特許 4870704 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2012年 2月 8日 | |
| 特許 4870437 | 偏向収差補正電圧の演算方法及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 2月 8日 | |
| 特許 4863825 | 荷電粒子ビーム描画装置及びプログラム | 2012年 1月25日 | |
| 特許 4862031 | マスク欠陥レビュー方法及びマスク欠陥レビュー装置 | 2012年 1月25日 | |
| 特許 4851253 | 描画装置、及び描画装置におけるエラー検出方法 | 2012年 1月11日 | |
| 特許 4852643 | 荷電粒子ビーム描画装置 | 2012年 1月11日 | |
| 特許 4852263 | 半導体装置の製造方法と、半導体装置のチップパタンの補正プログラム | 2012年 1月11日 |
75 件中 61-75 件を表示
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4885000 4881074 4874714 4874842 4874384 4870604 4870536 4870392 4870704 4870437 4863825 4862031 4851253 4852643 4852263
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