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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第630位 43件
(2023年:第609位 49件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第431位 65件
(2023年:第509位 54件)
(ランキング更新日:2025年4月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7604330 | 描画装置及び描画方法 | 2024年12月23日 | |
特許 7604354 | 検査装置及び焦点位置調整方法 | 2024年12月23日 | |
特許 7604355 | ブランキングアパーチャアレイシステム及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2024年12月23日 | |
特許 7599405 | 描画装置の制御方法および描画装置 | 2024年12月13日 | |
特許 7592556 | ブランキングアパーチャアレイユニット | 2024年12月 2日 | |
特許 7592564 | 放電部位検出方法および放電部位検出装置 | 2024年12月 2日 | |
特許 7589107 | 参照画像生成方法及びパターン検査装置 | 2024年11月25日 | |
特許 7589190 | 成膜方法 | 2024年11月25日 | |
特許 7582000 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びその調整方法 | 2024年11月13日 | |
特許 7578427 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2024年11月 6日 | |
特許 7574678 | 波形生成装置、波形生成方法及び荷電粒子ビーム照射装置 | 2024年10月29日 | |
特許 7574157 | 検査装置及び参照画像生成方法 | 2024年10月28日 | |
特許 7573396 | θステージ機構及び電子ビーム検査装置 | 2024年10月25日 | |
特許 7573457 | 電子銃の陰極機構、電子銃、及び電子ビーム描画装置 | 2024年10月25日 | |
特許 7568166 | マルチ荷電粒子ビーム描画領域の実効温度算出方法、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、マルチ荷電粒子ビーム描画方法、及びプログラム | 2024年10月16日 |
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7604330 7604354 7604355 7599405 7592556 7592564 7589107 7589190 7582000 7578427 7574678 7574157 7573396 7573457 7568166
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4月15日(火) -
4月15日(火) - 大阪 大阪市
4月15日(火) -
4月16日(水) - 東京 大田
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4月17日(木) -
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4月18日(金) - 東京 千代田区
4月15日(火) -
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4月22日(火) -
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4月23日(水) -
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4月23日(水) - 東京 千代田区
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4月24日(木) - 東京 港区
4月24日(木) -
4月24日(木) -
4月25日(金) -
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