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日新イオン機器株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第1043位 26件
（
2013年：第1216位 24件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第1674位 14件
（
2013年：第1187位 22件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日新イオン機器株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2014-110136 | イオン源、イオンビーム照射装置、及び、イオン源のクリーニング方法 | 2014年 6月12日 | |
| 特開 2014-110142 | イオンビーム照射装置及びイオンビーム照射方法 | 2014年 6月12日 | |
| 特開 2014-89853 | イオン注入装置 | 2014年 5月15日 | |
| 特開 2014-82175 | マスク及びイオンビーム照射装置 | 2014年 5月 8日 | |
| 特開 2014-82174 | マスク及びイオンビーム照射装置 | 2014年 5月 8日 | |
| 特開 2014-82150 | プラズマ源 | 2014年 5月 8日 | |
| 特開 2014-75436 | 基板ホルダ | 2014年 4月24日 | |
| 特開 2014-63763 | 複数の磁場集中部材をカバーする保護部材を備えたイオンビーム照射装置用磁石 | 2014年 4月10日 | |
| 特開 2014-41707 | イオン注入装置 | 2014年 3月 6日 | |
| 特開 2014-26955 | イオンビーム照射装置およびイオンビーム照射装置の運転方法 | 2014年 2月 6日 | |
| 特開 2014-13800 | 静電チャックおよび静電チャックモジュール | 2014年 1月23日 |
26 件中 16-26 件を表示
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2014-110136 2014-110142 2014-89853 2014-82175 2014-82174 2014-82150 2014-75436 2014-63763 2014-41707 2014-26955 2014-13800
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