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日新イオン機器株式会社

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  2014年 出願公開件数ランキング    第1043位 26件 上昇2013年:第1216位 24件)

  2014年 特許取得件数ランキング    第1674位 14件 下降2013年:第1187位 22件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2014-110136 イオン源、イオンビーム照射装置、及び、イオン源のクリーニング方法 2014年 6月12日
特開 2014-110142 イオンビーム照射装置及びイオンビーム照射方法 2014年 6月12日
特開 2014-89853 イオン注入装置 2014年 5月15日
特開 2014-82175 マスク及びイオンビーム照射装置 2014年 5月 8日
特開 2014-82174 マスク及びイオンビーム照射装置 2014年 5月 8日
特開 2014-82150 プラズマ源 2014年 5月 8日
特開 2014-75436 基板ホルダ 2014年 4月24日
特開 2014-63763 複数の磁場集中部材をカバーする保護部材を備えたイオンビーム照射装置用磁石 2014年 4月10日
特開 2014-41707 イオン注入装置 2014年 3月 6日
特開 2014-26955 イオンビーム照射装置およびイオンビーム照射装置の運転方法 2014年 2月 6日
特開 2014-13800 静電チャックおよび静電チャックモジュール 2014年 1月23日

26 件中 16-26 件を表示

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2014-110136 2014-110142 2014-89853 2014-82175 2014-82174 2014-82150 2014-75436 2014-63763 2014-41707 2014-26955 2014-13800

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