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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第192位 224件
(2019年:第252位 173件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第293位 94件
(2019年:第282位 100件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2020-200493 | 真空蒸着装置用の蒸着源 | 2020年12月17日 | |
特開 2020-200495 | スパッタリングターゲット機構 | 2020年12月17日 | |
特開 2020-200499 | 成膜システム、および、成膜方法 | 2020年12月17日 | |
特開 2020-200519 | 成膜装置 | 2020年12月17日 | |
特開 2020-200520 | 成膜装置、スパッタリングターゲット機構及び成膜方法 | 2020年12月17日 | |
特開 2020-200525 | マグネトロンスパッタリング装置用のカソードユニット | 2020年12月17日 | |
特開 2020-200809 | 真空ポンプ、真空ポンプの駆動装置及びその駆動方法 | 2020年12月17日 | |
特開 2020-202243 | プラズマ処理装置 | 2020年12月17日 | |
特開 2020-196915 | カーボン膜の成膜方法 | 2020年12月10日 | |
特開 2020-197570 | レジストパターンの製造方法及びレジスト膜 | 2020年12月10日 | |
特開 2020-198197 | イオン注入装置 | 2020年12月10日 | |
特開 2020-198265 | イオン注入装置、イオン源 | 2020年12月10日 | |
特開 2020-193352 | スパッタ成膜装置及びスパッタ成膜方法 | 2020年12月 3日 | |
特開 2020-193369 | 搬送室 | 2020年12月 3日 | |
特開 2020-193388 | 真空処理装置 | 2020年12月 3日 |
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10月16日(木) -
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