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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第630位 43件 (2023年:第641位 46件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第440位 63件 (2023年:第259位 132件)
(ランキング更新日:2025年1月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-27761 | 真空処理装置及び真空処理方法 | 2024年 3月 1日 | |
特開 2024-27829 | 真空処理装置及び真空処理方法 | 2024年 3月 1日 | |
特開 2024-24764 | 基板処理装置及びクランプ機構 | 2024年 2月26日 | |
特開 2024-24380 | 基板処理装置 | 2024年 2月22日 | |
特開 2024-21196 | 成膜装置及び成膜方法 | 2024年 2月16日 | |
特開 2024-22023 | 測定装置、成膜装置および膜厚測定方法 | 2024年 2月16日 | |
特開 2024-20036 | 基板搬送装置 | 2024年 2月14日 | |
特開 2024-5332 | 集塵方法 | 2024年 1月17日 | |
特開 2024-3721 | タングステンターゲットおよびその製造方法 | 2024年 1月15日 | |
特開 2024-2229 | 基板処理方法、および、基板処理装置 | 2024年 1月11日 | |
特開 2024-2574 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2024年 1月11日 | |
特開 2024-432 | 成膜方法及び弾性波デバイス | 2024年 1月 5日 | |
特開 2024-433 | 成膜方法及び弾性波デバイス | 2024年 1月 5日 |
43 件中 31-43 件を表示
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2024-27761 2024-27829 2024-24764 2024-24380 2024-21196 2024-22023 2024-20036 2024-5332 2024-3721 2024-2229 2024-2574 2024-432 2024-433
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