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東京エレクトロン株式会社

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　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第58位　660件（2018年：第67位　588件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第58位　415件（2018年：第50位　503件）

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2019-201201	基板処理方法、記憶媒体及び基板処理装置	2019年11月21日
特開 2019-201234	基板洗浄装置	2019年11月21日
特開 2019-201235	基板洗浄方法	2019年11月21日
特開 2019-195894	接続線支持装置	2019年11月14日
特開 2019-197830	載置台及びプラズマ処理装置	2019年11月14日
特開 2019-197849	プラズマ処理装置	2019年11月14日
特開 2019-197856	エッチング方法およびエッチング装置	2019年11月14日
特開 2019-197872	半導体膜の形成方法及び成膜装置	2019年11月14日
特開 2019-197893	誘導加熱を使用した急速ウェハ乾燥	2019年11月14日
特開 2019-197903	処理装置	2019年11月14日
特開 2019-198010	フィルタ装置及びプラズマ処理装置	2019年11月14日
再表 2018-128088	基板洗浄方法、基板洗浄システムおよび記憶媒体	2019年11月 7日
再表 2018-142840	基板処理方法、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム	2019年11月 7日
再表 2018-142955	電解処理装置および電解処理方法	2019年11月 7日
特開 2019-194132	ＩＩＩ族窒化物微結晶凝集体の製造方法、窒化ガリウム微結晶凝集体の製造方法、ＩＩＩ族窒化物微結晶凝集体およびスパッタリングターゲット	2019年11月 7日

665 件中 106-120 件を表示

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2019-201201 2019-201234 2019-201235 2019-195894 2019-197830 2019-197849 2019-197856 2019-197872 2019-197893 2019-197903 2019-198010 2018-128088 2018-142840 2018-142955 2019-194132

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