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東京エレクトロン株式会社

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 ■ 2015年 出願公開件数ランキング    第54位 646件 (上昇2014年:第58位 686件)

 ■ 2015年 特許取得件数ランキング    第51位 433件 (下降2014年:第48位 694件)

(ランキング更新日:2026年10月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 5832397 基板処理装置及び基板処理方法 2015年12月16日
特許 5829092 液処理装置および液処理方法 2015年12月 9日
特許 5829171 剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2015年12月 9日
特許 5829174 液処理装置および液処理方法 2015年12月 9日
特許 5829196 シリコン酸化物膜の成膜方法 2015年12月 9日
特許 5829509 載置台及びプラズマ処理装置 2015年12月 9日
特許 5830140 基板処理装置 2015年12月 9日
特許 5830275 プラズマエッチング方法 2015年12月 9日
特許 5830440 剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2015年12月 9日
特許 5829926 タングステン膜の成膜方法 2015年12月 9日
特許 5827593 可動ノズルおよび基板処理装置 2015年12月 2日
特許 5825268 基板検査装置 2015年12月 2日
特許 5826466 プローブカードの平行調整機構及び検査装置 2015年12月 2日
特許 5827384 アモルファスシリコン膜の成膜方法および成膜装置 2015年12月 2日
特許 5827939 成膜方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び成膜装置 2015年12月 2日

439 件中 16-30 件を表示

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5832397 5829092 5829171 5829174 5829196 5829509 5830140 5830275 5830440 5829926 5827593 5825268 5826466 5827384 5827939

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