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東京エレクトロン株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第56位 677件
（
2014年：第58位 686件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第51位 433件
（
2014年：第48位 694件）
（ランキング更新日：2025年10月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5812561 | プラズマ処理装置 | 2015年11月17日 | |
| 特許 5813389 | 基板処理時間設定方法及び記憶媒体 | 2015年11月17日 | |
| 特許 5813495 | 液処理方法、液処理装置および記憶媒体 | 2015年11月17日 | |
| 特許 5813551 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2015年11月17日 | |
| 特許 5813649 | 液処理装置、液処理方法 | 2015年11月17日 | |
| 特許 5814430 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置用電極 | 2015年11月17日 | |
| 特許 5815089 | ガス分解システムおよびガス分解器の寿命確認方法 | 2015年11月17日 | |
| 特許 5815827 | めっき処理装置、めっき処理方法および記憶媒体 | 2015年11月17日 | |
| 特許 5815967 | 基板洗浄装置及び真空処理システム | 2015年11月17日 | |
| 特許 5809718 | 基板搬送装置および基板処理システム | 2015年11月11日 | |
| 特許 5811540 | 金属膜の加工方法及び加工装置 | 2015年11月11日 | |
| 特許 5812023 | 液処理装置 | 2015年11月11日 | |
| 特許 5806185 | 剥離システム | 2015年11月10日 | |
| 特許 5806350 | 半導体装置の製造方法 | 2015年11月10日 | |
| 特許 5806612 | シリコン酸炭窒化膜の形成方法 | 2015年11月10日 |
439 件中 46-60 件を表示
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5812561 5813389 5813495 5813551 5813649 5814430 5815089 5815827 5815967 5809718 5811540 5812023 5806185 5806350 5806612
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