東京エレクトロン株式会社

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　■　2015年出願公開件数ランキング　　　第56位　677件（2014年：第58位　686件）

　■　2015年特許取得件数ランキング　　　第51位　433件（2014年：第48位　694件）

（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 5812561	プラズマ処理装置	2015年11月17日
特許 5813389	基板処理時間設定方法及び記憶媒体	2015年11月17日
特許 5813495	液処理方法、液処理装置および記憶媒体	2015年11月17日
特許 5813551	基板処理装置および基板処理方法	2015年11月17日
特許 5813649	液処理装置、液処理方法	2015年11月17日
特許 5814430	プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置用電極	2015年11月17日
特許 5815089	ガス分解システムおよびガス分解器の寿命確認方法	2015年11月17日
特許 5815827	めっき処理装置、めっき処理方法および記憶媒体	2015年11月17日
特許 5815967	基板洗浄装置及び真空処理システム	2015年11月17日
特許 5809718	基板搬送装置および基板処理システム	2015年11月11日
特許 5811540	金属膜の加工方法及び加工装置	2015年11月11日
特許 5812023	液処理装置	2015年11月11日
特許 5806185	剥離システム	2015年11月10日
特許 5806350	半導体装置の製造方法	2015年11月10日
特許 5806612	シリコン酸炭窒化膜の形成方法	2015年11月10日

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5812561 5813389 5813495 5813551 5813649 5814430 5815089 5815827 5815967 5809718 5811540 5812023 5806185 5806350 5806612

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