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東京エレクトロン株式会社

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　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第43位　773件（2019年：第58位　660件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第54位　436件（2019年：第58位　415件）

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2020-141033	堆積処理方法及びプラズマ処理装置	2020年 9月 3日
特開 2020-141034	基板処理装置、基板処理方法及び接合方法	2020年 9月 3日
特開 2020-141038	ガス供給方法およびガス供給システム	2020年 9月 3日
特開 2020-141039	ガス供給システムおよびガス供給方法	2020年 9月 3日
特開 2020-141103	基板処理方法及び基板処理装置	2020年 9月 3日
特開 2020-141116	プラズマ処理装置、プラズマ状態検出方法およびプラズマ状態検出プログラム	2020年 9月 3日
特開 2020-141118	基板処理装置、基板処理システム及び載置台を位置合わせする方法	2020年 9月 3日
特開 2020-132890	スパッタ装置	2020年 8月31日
特開 2020-132904	基板処理方法及び基板処理装置	2020年 8月31日
特開 2020-132942	成膜装置および成膜方法	2020年 8月31日
特開 2020-132986	成膜用組成物および成膜方法	2020年 8月31日
特開 2020-136062	基板処理装置	2020年 8月31日
特開 2020-136338	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2020年 8月31日
特開 2020-136368	画像生成装置、検査装置及び画像生成方法	2020年 8月31日
特開 2020-136387	成膜方法、成膜処理用の処理容器のクリーニング方法及び成膜装置	2020年 8月31日

777 件中 256-270 件を表示

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2020-141033 2020-141034 2020-141038 2020-141039 2020-141103 2020-141116 2020-141118 2020-132890 2020-132904 2020-132942 2020-132986 2020-136062 2020-136338 2020-136368 2020-136387

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