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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第43位 773件
(2019年:第58位 660件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第54位 436件
(2019年:第58位 415件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2020-129619 | 基板処理方法、及び基板処理装置 | 2020年 8月27日 | |
特表 2020-524907 | 埋め込み型電力レール | 2020年 8月20日 | |
特開 2020-126755 | プラズマ処理装置および電極構造体 | 2020年 8月20日 | |
特開 2020-126776 | 高周波電源及びプラズマ処理装置 | 2020年 8月20日 | |
特開 2020-126881 | 基板処理装置およびクリーニング方法 | 2020年 8月20日 | |
特開 2020-126883 | 成膜方法及び成膜装置 | 2020年 8月20日 | |
特開 2020-126885 | 成膜装置及び成膜方法 | 2020年 8月20日 | |
特開 2020-126886 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2020年 8月20日 | |
特開 2020-126898 | 成膜方法 | 2020年 8月20日 | |
特開 2020-126899 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2020年 8月20日 | |
特開 2020-126900 | 載置台及び基板処理装置 | 2020年 8月20日 | |
特開 2020-126924 | 基板処理装置 | 2020年 8月20日 | |
特開 2020-126925 | 排気装置、処理システム及び処理方法 | 2020年 8月20日 | |
特開 2020-126927 | 半導体製造装置およびステージの回転制御方法 | 2020年 8月20日 | |
特開 2020-126934 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2020年 8月20日 |
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2020-129619 2020-524907 2020-126755 2020-126776 2020-126881 2020-126883 2020-126885 2020-126886 2020-126898 2020-126899 2020-126900 2020-126924 2020-126925 2020-126927 2020-126934
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2月25日(火) -
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2月26日(水) -
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2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
3月4日(火) - 東京 港区
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月5日(水) -
3月5日(水) -
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
3月7日(金) -
3月7日(金) - 東京 港区
3月7日(金) -
3月7日(金) -
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