特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第33位　878件（2020年：第43位　773件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第45位　515件（2020年：第54位　436件）

（ランキング更新日：2025年2月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2021-145013	エッジリングの保持方法、プラズマ処理装置、及び基板処理システム	2021年 9月24日
特開 2021-145017	基板搬送システム、真空基板搬送モジュール、および基板搬送方法	2021年 9月24日
特開 2021-145030	基板処理方法及び基板処理装置	2021年 9月24日
特開 2021-145095	温度制御方法およびプラズマ処理装置	2021年 9月24日
再表 2020-54424	塗布膜形成方法及び塗布膜形成装置	2021年 9月16日
特開 2021-137882	加工方法及び加工装置	2021年 9月16日
特開 2021-137883	セルフグラインド方法及び加工装置	2021年 9月16日
特開 2021-137934	研削装置、及び研削方法	2021年 9月16日
特開 2021-138050	描画装置および描画方法	2021年 9月16日
特開 2021-139017	基板処理装置及び基板処理方法	2021年 9月16日
特開 2021-139675	測定装置、基板処理システムおよび測定方法	2021年 9月16日
特開 2021-140986	プラズマ処理装置	2021年 9月16日
特開 2021-141010	検査方法及びプラズマ処理装置	2021年 9月16日
特開 2021-141050	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2021年 9月16日
特開 2021-141113	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置	2021年 9月16日

882 件中 256-270 件を表示

... 18

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2021-145013 2021-145017 2021-145030 2021-145095 2020-54424 2021-137882 2021-137883 2021-137934 2021-138050 2021-139017 2021-139675 2021-140986 2021-141010 2021-141050 2021-141113

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数