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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2021-197450	実行装置及び実行方法	2021年12月27日
特開 2021-197457	載置台及び基板処理装置	2021年12月27日
特開 2021-197489	基板処理装置およびガス供給配管のパージ方法	2021年12月27日
特開 2021-197524	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2021年12月27日
特開 2021-197548	エッジリング及びプラズマ処理装置	2021年12月27日
再表 2020-184178	処理装置及び処理方法	2021年12月23日
再表 2020-184179	基板処理装置及び基板処理方法	2021年12月23日
再表 2020-175194	基板処理装置、基板処理方法、及び記憶媒体	2021年12月16日
再表 2020-179417	基板処理ブラシの洗浄方法及び基板処理装置	2021年12月16日
再表 2020-202975	レーザー加工装置、およびレーザー加工方法	2021年12月16日
特表 2021-535604	ウェットエッチングのための光子的に調整されたエッチング液の反応性	2021年12月16日
特表 2021-535616	自己組織化単分子膜コーティングを使用することによる金属汚染の防止のための方法及びシステム	2021年12月16日
特表 2021-535617	３次元ロジック機構内に積層型トランジスタを組み込んだロジックセルを垂直方向にルーティングする方法	2021年12月16日
特開 2021-192343	プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法	2021年12月16日
特開 2021-192414	基板処理方法および基板処理装置	2021年12月16日

882 件中 16-30 件を表示

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2021-197450 2021-197457 2021-197489 2021-197524 2021-197548 2020-184178 2020-184179 2020-175194 2020-179417 2020-202975 2021-535604 2021-535616 2021-535617 2021-192343 2021-192414

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