特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第33位　878件（2020年：第43位　773件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第45位　515件（2020年：第54位　436件）

（ランキング更新日：2025年2月7日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2021-533558	垂直入射現場プロセス監視センサ	2021年12月 2日
特開 2021-184410	エッチング方法及びプラズマ処理装置	2021年12月 2日
特開 2021-184419	基板処理装置及びパラメータ取得方法	2021年12月 2日
特開 2021-184438	基板搬送装置及び基板把持判定方法	2021年12月 2日
特開 2021-184486	検査システム、ならびに検査システムの故障解析・予知方法	2021年12月 2日
特開 2021-184503	基板処理方法、および基板処理装置	2021年12月 2日
特開 2021-184505	基板処理システム及び基板処理方法	2021年12月 2日
再表 2020-153189	基板処理装置及び基板処理方法	2021年11月25日
再表 2020-153219	加工装置及び加工方法	2021年11月25日
再表 2020-158079	成膜方法および成膜装置、ならびに酸化処理方法	2021年11月25日
再表 2021-90798	エッチング方法、プラズマ処理装置、処理ガス、デバイスの製造方法、プログラム、及び記憶媒体	2021年11月25日
特表 2021-532179	光開始剤	2021年11月25日
特開 2021-181148	基板処理装置、研磨ヘッド、及び基板処理方法	2021年11月25日
特開 2021-181595	複合ターゲット、複合ターゲットの製造方法及び窒化物半導体膜の形成方法	2021年11月25日
特開 2021-181601	成膜方法及び成膜装置	2021年11月25日

882 件中 61-75 件を表示

... 5

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2021-533558 2021-184410 2021-184419 2021-184438 2021-184486 2021-184503 2021-184505 2020-153189 2020-153219 2020-158079 2021-90798 2021-532179 2021-181148 2021-181595 2021-181601

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数