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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件 (2020年:第43位 773件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件 (2020年:第54位 436件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2021-190555 | 液処理方法及び液処理装置 | 2021年12月13日 | |
特開 2021-190571 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2021年12月13日 | |
特開 2021-190629 | 検査装置及び検査方法 | 2021年12月13日 | |
特開 2021-190634 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年12月13日 | |
特開 2021-190638 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2021年12月13日 | |
特開 2021-190678 | エッチング方法及びプラズマ処理装置 | 2021年12月13日 | |
特開 2021-190692 | ボーイングを抑制するための保護側壁層を形成する方法及び装置 | 2021年12月13日 | |
特開 2021-190693 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年12月13日 | |
再表 2020-170597 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2021年12月 9日 | |
特表 2021-534544 | プラズマ処理のための制御のシステム及び方法 | 2021年12月 9日 | |
特表 2021-534545 | プラズマ処理のための制御のシステム及び方法 | 2021年12月 9日 | |
特表 2021-534575 | ルテニウムハードマスクプロセス | 2021年12月 9日 | |
特開 2021-185604 | 加熱処理装置及び加熱処理方法 | 2021年12月 9日 | |
特開 2021-185630 | 基板処理システム | 2021年12月 9日 | |
再表 2020-170865 | 半導体装置の製造方法 | 2021年12月 2日 |
882 件中 46-60 件を表示
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2021-190555 2021-190571 2021-190629 2021-190634 2021-190638 2021-190678 2021-190692 2021-190693 2020-170597 2021-534544 2021-534545 2021-534575 2021-185604 2021-185630 2020-170865
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2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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